技术方案

Technical scheme

在研项目 解决案例

去绕镀清洗技术

去绕镀技术研发的目标是用于在TOPCon电池生产中去除正面绕镀的多晶硅。

1.可实现多晶硅绕镀区域去除干净,露出扩硼区域,扩硼面无色差,提升电池外观良率,以及有利于后续正面良好钝化,提升电池效率;

2.可实现扩硼区域PN结保护良好,电池效率不受影响;

3.碱处理工艺,无氮排放,对环境友好。


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